Questões de Concurso Para dcta

Potencial de corrosão.

Coeficiente de encruamento.

Quantificação de regiões recristalizadas.

Composição química de inclusões.

Resistividade elétrica.

óptica de transmissão.

óptica de reflexão.

estereoscópica.

eletrônica de varredura.

eletrônica de transmissão de lâminas finas.

20 mL de cloreto cupro amonical em 100 mL de água destilada.

100 mL de ácido nítrico concentrado em 100 mL de água destilada.

5 mL de ácido clorídrico concentrado em 100 mL de água destilada.

1 a 5 mL de ácido sulfúrico concentrado em 100 mL de água destilada.

10 g de persulfato de amônio em 90 mL de água destilada.

Identificação e escolha da seção a ser estudada – lixamento de desbaste – embutimento – seccionamento – lixamento de acabamento – polimento – ataque químico.

Identificação e escolha da seção a ser estudada – lixamento de desbaste – embutimento – seccionamento – lixamento de acabamento – polimento – ataque químico.

Identificação e escolha da seção a ser estudada – embutimento – seccionamento – lixamento de desbaste – lixamento de acabamento – polimento – ataque químico.

Identificação e escolha da seção a ser estudada – embutimento – seccionamento – ataque químico – lixamento de desbaste – lixamento de acabamento – polimento.

Identificação e escolha da seção a ser estudada – seccionamento – embutimento – lixamento de desbaste – lixamento de acabamento – polimento – ataque químico.

resistência mecânica.

opacidade.

resistência à corrosão.

anisotropia óptica.

encruamento.

Para os metais e semicondutores pode-se utilizar indistintamente tanto o microscópio óptico de transmissão quanto o de luz refletida.

Para os metais e semicondutores utilizam-se apenas os microscópios ópticos de luz refletida, pois a penetração da luz é muito pequena.

Para os metais e semicondutores utilizam-se apenas os microscópios ópticos de transmissão, pois a penetração da luz é muito pequena.

Para os metais e semicondutores utilizam-se apenas os microscópios ópticos de luz refletida, pois a penetração da luz é muito grande.

Para os metais e semicondutores utilizam-se apenas os microscópios ópticos de transmissão, pois a penetração da luz é muito grande.

é diretamente proporcional ao módulo de elasticidade longitudinal e inversamente proporcional ao coeficiente de Poisson.

é diretamente proporcional ao coeficiente de Poisson e inversamente proporcional ao módulo de elasticidade longitudinal.

é diretamente proporcional ao produto entre o coeficiente de Poisson e o módulo de elasticidade longitudinal.

é inversamente proporcional ao produto entre o coeficiente de Poisson e o módulo de elasticidade longitudinal.

independe do coeficiente de Poisson.

a estricção é inversamente proporcional à ductilidade do material ensaiado.

o alongamento é diretamente proporcional à deformação total até a ruptura do corpo-de-prova.

o limite de resistência é calculado dividindo-se a carga medida na ruptura pela seção transversal inicial do corpo-de-prova.

o alongamento total é calculado dividindo-se o limite de resistência pelo limite de escoamento.

o coeficiente de encruamento é medido na zona elástica.

Vickers.

Rockwell C.

Brinell.

Shore.

Knoop.

dividindo-se a estrição pelo limite de resistência.

multiplicando-se o módulo de elasticidade pelo limite de resistência.

determinando-se a área sob a curva de escoamento até o limite de resistência.

determinando-se a área sob a curva de escoamento na região elástica.

multiplicando-se o alongamento pelo limite de resistência.

cementação a gás.

nitretação iônica.

cementação sólida.

tempera por indução.

cementação líquida.

Não existem diferenças operacionais entre esses dois tratamentos termoquímicos.

A cementação é realizada a temperaturas abaixo de 400 ºC enquanto a cianetação é realizada acima de 1 200 ºC.

A cementação é realizada numa atmosfera de gases carburizantes, enquanto na cianetação acresce-se amônia à atmosfera carburizante.

Na cementação utiliza-se uma atmosfera carburizante e na cianetação utiliza-se uma atmosfera rica em substância portadora de corrente entre dois eletrodos.

A cementação é realizada num banho de sal fundido e a cianetação ocorre pela ionização de gás nitrogênio sob baixa pressão.

H₂ e CO₂

Fe₃C e CO₂

Fe₃C e H₂

CO e H₂

FeN e CO

simultânea de carbono e nitrogênio durante o aquecimento e ao resfriamento posterior em óleo, água ou salmoura.

de nitrogênio durante o aquecimento, sem a necessidade de resfriamento posterior em óleo, água ou salmoura.

de carbono durante o aquecimento, sem a necessidade de resfriamento posterior em óleo, água ou salmoura.

de cianeto de sódio durante o aquecimento, sem a necessidade de resfriamento posterior em óleo, água ou salmoura.

simultânea de carbono e nitrogênio durante o aquecimento, sem a necessidade de resfriamento posterior em óleo, água ou salmoura.

Cementação.

Cianetação.

Nitretação.

Cementação, cianetação e nitretação necessitam de tratamento térmico posterior.

A cementação, a cianetação e a nitretação não necessitam de tratamento térmico posterior.

Nitretação simples a gás.

Nitretação líquida.

Nitretação líquida sob pressão.

Nitretação iônica.

A espessura da camada não é afetada pelas variações operacionais.

300 a 375 ºC.

500 a 575 ºC.

900 a 975 ºC.

1 100 a 1 175 ºC.

1 200 a 1 275 ºC.

acelerada pelo aumento da temperatura de aquecimento.

reduzida pelo aumento da temperatura de aquecimento.

tanto menor quanto maior o tamanho de grão cristalino.

tanto maior quanto menor o tamanho de grão cristalino.

independente da temperatura de aquecimento.

modificação parcial da composição química nas seções que se deseja endurecer.

diminuição da rugosidade da superfície que se deseja endurecer.

elevação do tamanho de grão cristalino nas seções que se deseja endurecer.

alongamento dos grãos cristalinos nas seções que se deseja endurecer.

corrosão controlada das seções que se deseja endurecer.

225 a 250 ºC.

325 a 350 ºC.

625 a 650 ºC.

825 a 850 ºC.

1025 a 1 050 ºC.