A técnica de fotolitografia apresenta diversas característic...

A utilização da máscara visa a reproduzir determinado padrão para a lâmina de silício, pois cada padrão transferido na máscara constituirá uma das etapas do processo, que pode ser empregada na construção de um dispositivo. 

Não é possível utilizar uma fotoalinhadora para transferir o padrão da máscara para o substrato, expondo o material à luz ultravioleta. 

As máscaras são reproduções de alta qualidade dos projetos CAD, mas que não podem ser utilizadas na fotogravação. 

Os sistemas de reprodução por contato ou proximidade não podem utilizar a imagem projetada de uma máscara para fazer a transferência dos padrões da máscara para o filme de fotorresiste. 

Na etapa de desidratação, no processo de fotolitografia, deve-se reduzir ao menor número possível os contaminantes depositados na lâmina durante o processamento, a manipulação e  o transporte.